第219章 第四个万分超级大奖！ (第1/2页)

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【恭喜宿主获得奖励：原子光刻机研发技术！】

哇草——

原子光刻机？？

正在开车的洛云峥蛋蛋一震！

无数复杂的光刻机技术排队灌入他的脑海。

上一次的万分超级大奖是1nm芯片研发技术，近一个半月，他一直在私下研究消化，同时让沈夜子秘密前期筹备。

如果想生产出1nm芯片，必须拥有能承载1nm生产工艺的光刻机，因为芯片在设计之后，要经过一系列复杂的生产流程，而光刻是其中最重要的环节。

光刻机对于芯片，相当于“印刷机+雕刻刀”的综合体，即把芯片设计图以纳米级精度“印刻”到硅晶圆上，它决定了电路的最小线宽与关键尺寸，是整个制造流程的核心。

目前世界上的主流光刻机，根据光源不同，分为uv（紫外光源）、duv（深紫外光源）、euv（极紫外光源）。

其中euv光刻机技术最先进，可以生产2nm芯片，荷国的阿丝麦公司是全球唯一量产euv的供应商，苔积电、三星、英特尔为主要客户。

龙国的光刻机技术相对落后，仍处在duv阶段，当然还有别的光刻模式，比如电子束光刻机，但国内最先进的光刻机只能生产7nm芯片，而且暂时未能量产。

拿华伟举例，华伟最新款旗舰手机matexts三折叠，芯片为麒林9020，工艺为龙芯国际7nm，该工艺采用的光刻机是荷国阿丝麦公司的浸没式duv。

问：为什么不采用更高端的euv光刻机？

答：荷国在米方的施压下实施出口管制。

因此，龙国的芯片行业一直被欧美卡着脖子，花高价都买不到高端光刻机。

系统传授洛云峥的光刻机是原子技术，原子光刻机与euv等主流光刻机区别很大。

对比来看——

精度方面：原子光刻机的分辨率能突破0.3纳米，而当前最先进的euv光刻机精度只能达到2nm。

能耗方面：原子光刻机与euv光刻机相比，可将芯片制造能耗降低80%。

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